激光直写、光栅扫描曝光、快速曝光复杂的图形 、灰度光刻、无掩膜光刻
miniFactory Ultra 3D打印机可以使超级聚合物和工业级3D打印零件达到满意效果,极限...
Polymer Pen Lithography (PPL)聚合物笔印刷是新发展起来的图案化方法,结合...
利用电子束在抗蚀剂上书写纳米级图案,通过ELB设备曝光和显影,可用于加工sub-10nm的精细结构。
利用ECR技术产生高能Ar+离子束,Ar+离子束通过电场加速,对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。
利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料实施变剂量曝光,显影后便在抗蚀层表面形成要求的浮雕轮廓。
桌面式主动隔振系统,安装简易
徕卡室温/冷冻超薄切片机系列,主要用于TEM,可切样品涉及塑料、橡胶、高分子聚合物、软金属、生物样品...
利用ECR技术产生高能Ar+离子束,Ar+离子束通过电场加速,对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。