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微纳米加工及辅助设备

      1. 便携式AFM
      2. 小样品AFM
      3. 大样品AFM
      4. 全自动AFM
      5. 生物型AFM
      6. 光诱导力显微镜IR/SNOM/TERS
      7. 扫描热学显微镜
      8. 扫描微波阻抗显微镜
      9. AFM In-SEM
      +
      1. D系列台阶仪
      2. P系列台阶仪
      +
      1. Zeta系列光学轮廓仪
      2. 白光干涉仪
      +
      1. 单点厚度测量
      2. 微米（显微）级光斑尺度厚度测量
      3. 自动厚度测量系统
      4. 在线厚度测量系统
      5. 椭偏仪
      6. 棱镜耦合仪
      +
      1. 表面等离子共振显微镜
      2. 表面等离子共振仪
      +
    6. +
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    1. +
      1. 纳米拉伸仪
      +
      1. 原位TEM四自由度纳米操纵样品杆
      +
      1. 原位拉伸台
      2. In-SEM纳米操作机
      3. In-SEM纳米压痕
      +
    5. +
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    1. +
      1. 小型研发台
      2. 手动探针台
      3. 自动探针台
      4. 高功率探针台
      5. 全自动探针台
      +
      1. 示波器
      2. 矢量网络分析仪
      3. 频谱分析仪
      4. 功率分析仪
      5. 参数分析仪
      6. 误码率测试仪
      7. 相干光信号分析仪
      8. 频率计数器
      +
      1. 探针及配件
      +
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      1. In-SEM原子力显微镜
      +
      1. In-SEM纳米压痕
      2. In-SEM 纳米操作机
      +
      1. 原位芯片及Holder
      +
    4. +
    5. +
    +
      1. 激光直写光刻机
      2. 沉积设备
      3. 刻蚀设备
      4. 电子束曝光
      5. 纳米压印机
      6. 聚合物笔印刷
      +
      1. 等离子清洗机
      2. 紫外臭氧清洗机
      +
      1. 被动隔震台
      2. 主动隔震台
      +
      1. 样品切割
      2. 镶嵌
      3. 研磨抛光
      +
      1. 工业/测量显微镜
      2. 视频显微镜
      3. 金相显微镜
      4. 偏光显微镜
      5. 立体/体视显微镜
      6. USB显微镜
      +
      1. 干燥箱
      2. 氮气柜
      +
    +
      1. AFM探针
      2. AFM标样基底
      +
      1. 氮化硅薄膜窗口
      2. Quantifoil多孔载网
      3. TEM耗材
      4. SEM耗材
      5. X-ray耗材
      +
      1. GGB探针
      +
      1. 光栅模板
      2. 点阵模板
      3. 孔状模板
      4. 纳米压印胶
      +
    5. +
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  • 多功能无掩膜激光直写

    激光直写、光栅扫描曝光、快速曝光复杂的图形 、灰度光刻、无掩膜光刻

  • 高温3D打印机

    miniFactory Ultra 3D打印机可以使超级聚合物和工业级3D打印零件达到满意效果，极限...

  • 聚合物笔印刷

    Polymer Pen Lithography (PPL)聚合物笔印刷是新发展起来的图案化方法，结合...

  • 电子束曝光系统

    利用电子束在抗蚀剂上书写纳米级图案，通过ELB设备曝光和显影，可用于加工sub-10nm的精细结构。

  • 离子束刻蚀/沉积系统

    利用ECR技术产生高能Ar+离子束，Ar+离子束通过电场加速，对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。

  • 无掩膜激光直写

    利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料实施变剂量曝光，显影后便在抗蚀层表面形成要求的浮雕轮廓。

  • Estable主动隔振台

    桌面式主动隔振系统，安装简易

  • 徕卡室温超薄切片机 Leica EM UC7

    徕卡室温/冷冻超薄切片机系列，主要用于TEM，可切样品涉及塑料、橡胶、高分子聚合物、软金属、生物样品...

  • 离子束刻蚀/沉积系统

    利用ECR技术产生高能Ar+离子束，Ar+离子束通过电场加速，对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。