桌面式等离子清洗、蚀刻系统,等离子刻蚀&反应离子刻蚀系统
腔室结构:
型号比较:
应用:
· 刻蚀:氧化物刻蚀 RIE模式, 氮化物刻蚀RIE模式, 硅刻蚀 RIE模式, 光刻胶刻蚀 RIE模式, 聚合物(RIE+PE),二维材料 RIE
· 表面处理:亲水处理 PE模式,功能化 PE模式,粘附力增强:PE+RIE,高分子: RIE+PE
桌面式等离子清洗、蚀刻系统,等离子刻蚀&反应离子刻蚀系统
腔室结构:
型号比较:
应用:
· 刻蚀:氧化物刻蚀 RIE模式, 氮化物刻蚀RIE模式, 硅刻蚀 RIE模式, 光刻胶刻蚀 RIE模式, 聚合物(RIE+PE),二维材料 RIE
· 表面处理:亲水处理 PE模式,功能化 PE模式,粘附力增强:PE+RIE,高分子: RIE+PE