台式无掩模光刻机
光刻模块 无掩模光刻 显微镜光刻
氮气发生器
高纯度进口氮气发生器。
接近式光刻机
SUME MA-L8是高精度双面对准半自动接近式光刻机,能高质量完成标准光刻工艺,且可根据客户实际工...
多功能无掩膜激光直写
激光直写、光栅扫描曝光、快速曝光复杂的图形 、灰度光刻、无掩膜光刻
无掩膜激光直写
利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料实施变剂量曝光,显影后便在抗蚀层表面形成要求的浮雕轮廓。