电子束曝光机(Electron Beam Lithography, EBL)
100KV
台式无掩模光刻机
光刻模块 无掩模光刻 显微镜光刻
氮气发生器
高纯度进口氮气发生器。
电子束曝光系统
利用电子束在抗蚀剂上书写纳米级图案,通过ELB设备曝光和显影,可用于加工sub-10nm的精细结构。