Desktop Pro以共焦结构支持一个或两个阴较为,在4英寸直径上提供高薄膜均匀性。其能够在不到30分钟的时间内抽气至高真空(10-6托范围),这是需要快速转换的多用户环境中完美解决方案。
用途:
溅射 材料研究 产品质量控制和质量保证
半导体故障分析 纳米技术 化合物半导体
优势:
这一直流和射频溅射系统将提高您的研究生产力,提供一致、可重复的性能,同时,可大幅节约测试环境的空间。
Desktop Pro以共焦结构支持一个或两个阴较为,在4英寸直径上提供高薄膜均匀性。其能够在不到30分钟的时间内抽气至高真空(10-6托范围),这是需要快速转换的多用户环境中完美解决方案。
溅射 材料研究 产品质量控制和质量保证
半导体故障分析 纳米技术 化合物半导体
优势:
这一直流和射频溅射系统将提高您的研究生产力,提供一致、可重复的性能,同时,可大幅节约测试环境的空间。