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首页> > 产品中心 > 离子束刻蚀/沉积系统

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离子束刻蚀/沉积系统
品 牌 ：Elionix
型 号 ：EIS-200
产 地 ：日本
关键词 ：离子束蚀刻,干法蚀刻,离子束减薄,离子束沉积
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EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术（ECR）的小型离子束蚀刻系统，特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄，清洗、沉积等。




EIS-200原理：




利用ECR技术产生高能Ar+离子束，Ar+离子束通过电场加速到达样品表面，对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。

       

EIS-200具有以下优点：

Ÿ   方向性好，各向异性，陡直度高，侧向刻蚀少

Ÿ   分辨率高

Ÿ   不受刻蚀材料限制，可对石英等材料进行蚀刻

Ÿ   可控制蚀刻Taper角

Ÿ   可以设定多样的实验条件

Ÿ   NPD(纳米图案成膜单元)选项（如下图）



       主要功能


纳米级图案刻蚀

高深宽比蚀刻

离子束沉积

表面清洁

离子减薄


     技术能力



应用

纳米级图案刻蚀、高深宽比蚀刻、表面清洁、离子减薄等

Ÿ   SiO2 on Si substrate



Ÿ   Diamond Substrate（金刚石）

        

Ÿ   Quartz (Mask)



             

Ÿ   Oriented PET film