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首页> > 产品中心 > X射线菲涅耳波带板（FZP）

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X射线菲涅耳波带板（FZP）
品 牌 ：NTTAT
型 号 ：多种
产 地 ：日本
关键词 ：X射线
产品手册下载

NTT的FZP由干法蚀刻的Ta组成。具有出色的高耐X射线辐射性、高分辨率和高对比度,吸收体图案清晰，S/N比高，成像缺陷少, 能理想地应用于X射线显微镜、X射线微光束辐射和X射线成像。
       另外，还提供用于软X射线和较为紫外（EUV、XUV）领域的Ta图案／SiN膜型FZP和Au板图案／SiN 膜型FZP。并提供台阶式（基诺全息照片）FZP


型号

宽高比

膜材料

膜厚度

（μm）

ΔRn

（nm）

D

（μm）

N

Tm

（nm）

FZP-S38/84

4.2

SiN

0.15

38

84

550

160

FZP-S50/80

5

SiN

0.2

50

80

400

250

FZP-S40/155

5

SiN

2

40

155

970

200

FZP-S50/330

8

SiN

1

50

330

1,650

400

FZP-S86/416

8

SiN

2

86

416

1,200

700

FZP-100/155

8

SiN

2

100

155

388

800

FZP-173/208

5.8

SiN

2

173

208

300

1,000

FZP-200/206

8

SiN

2

200

206

255

1,600

FZP-C234/2500

0.6

SiC

0.2

234

2,500

2,670

150



NTT-AT的EUV-FZP针对EUV波长进行了优化。

薄膜上的Ta吸收剂图案实现低于100nm / a

少数100纳米聚焦和成像等

 -  EUV显微镜

 -  EUV纳米束生成

   -  EUV检查