KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量,其测量范围从nm-mm,可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量,被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品,可测量从几mm到450mm大小的样品,薄膜厚度测量范围1nm到mm级。Filmetrics F10-RT以真空镀膜为设计目标,只要单击鼠标即可获得反射和透射光谱。 不需要费时改变硬件配置,F10-RT-UV 仅需要透过单击鼠标就能够同时收集反射与透射光谱,不到一秒钟的时间,阵列的光谱仪就可以快速的收集到资料。另外,Filmetrics 专用的Autobaseline 设计可以减少十倍以上的基准校准的参数读取时间。只需传统价格的一小部分,用户就能进行低/高分析、确定 FWHM 并进行颜色分析。可选的厚度和折射率模块让您能够充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。测量结果能被快速地导出和打印。
一、 主要功能
l 主要应用
同步测量薄膜的反射率和穿透率
空间色彩系统的色彩分析
多层薄膜分析能力
膜厚和参数解算模块
l 技术能力
光谱波长范围:380-1050 nm
厚度测量范围:15nm-70μm
测量n&k小厚度:100 nm
准确度:取较大值,2nm或0.4%
精度:0.1nm
稳定性:0.07nm
光斑大小:6mm
二、 应用
半导体制造:光刻胶、氧化物、氮化物
液晶显示器:液晶间隙、聚酰亚胺保护膜、纳米铟锡金属氧化物
生物医疗原件:聚合物/聚对二甲苯涂层、生物膜/气泡球厚度、药物涂层支架
微机电系统:硅膜、氮化铝/氧化锌薄膜滤镜
光学镀膜:硬镀膜、增透镀膜、Filters滤光