在线客服
021-64283335

首页> > 产品中心 > 离子束刻蚀/沉积系统

      1. 便携式AFM
      2. 小样品AFM
      3. 大样品AFM
      4. 全自动AFM
      5. 生物型AFM
      6. 光诱导力显微镜IR/SNOM/TERS
      7. 扫描热学显微镜
      8. 扫描微波阻抗显微镜
      9. AFM In-SEM
      +
      1. D系列台阶仪
      2. P系列台阶仪
      +
      1. Zeta系列光学轮廓仪
      2. 白光干涉仪
      +
      1. 单点厚度测量
      2. 微米(显微)级光斑尺度厚度测量
      3. 自动厚度测量系统
      4. 在线厚度测量系统
      5. 椭偏仪
      6. 棱镜耦合仪
      +
      1. 表面等离子共振显微镜
      2. 表面等离子共振仪
      +
    1. +
    2. +
    +
    1. +
      1. 纳米拉伸仪
      +
      1. 原位TEM四自由度纳米操纵样品杆
      +
      1. 原位拉伸台
      2. In-SEM纳米操作机
      3. In-SEM纳米压痕
      +
    2. +
    +
    1. +
      1. 小型研发台
      2. 手动探针台
      3. 半自动探针台
      +
      1. 示波器
      2. 矢量网络分析仪
      3. 频谱分析仪
      4. 功率分析仪
      5. 参数分析仪
      6. 误码率测试仪
      7. 相干光信号分析仪
      8. 频率计数器
      +
      1. 探针及配件
      +
    +
      1. In-SEM原子力显微镜
      +
      1. In-SEM纳米压痕
      2. In-SEM 纳米操作机
      +
      1. 原位芯片及Holder
      +
    1. +
    2. +
    +
    1. +
    2. +
    3. +
    4. +
    5. +
    6. +
    7. +
    8. +
    9. +
    10. +
    +
    1. +
      1. 电镜样品清洗机
      2. 等离子清洗机
      3. 紫外臭氧清洗机
      +
      1. 被动隔震台
      2. 主动隔震台
      +
      1. 样品切割
      2. 镶嵌
      3. 研磨抛光
      +
      1. 工业/测量显微镜
      2. 视频显微镜
      3. 金相显微镜
      4. 偏光显微镜
      5. 立体/体视显微镜
      6. USB显微镜
      +
      1. 干燥箱
      2. 氮气柜
      +
    +
      1. AFM探针
      2. AFM标样基底
      +
      1. 氮化硅薄膜窗口
      2. Quantifoil多孔载网
      3. TEM耗材
      4. SEM耗材
      5. X-ray耗材
      +
      1. GGB探针
      +
      1. 光栅模板
      2. 点阵模板
      3. 孔状模板
      4. 纳米压印胶
      +
    1. +
    +
离子束刻蚀/沉积系统
品 牌 :Elionix
型 号 :EIS-200
产 地 :日本
关键词 :离子束蚀刻,干法蚀刻,离子束减薄,离子束沉积

EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、沉积等。




EIS-200原理:




利用ECR技术产生高能Ar+离子束,Ar+离子束通过电场加速到达样品表面,对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。

       

EIS-200具有以下优点:

Ÿ   方向性好,各向异性,陡直度高,侧向刻蚀少

Ÿ   分辨率高

Ÿ   不受刻蚀材料限制,可对石英等材料进行蚀刻

Ÿ   可控制蚀刻Taper

Ÿ   可以设定多样的实验条件

Ÿ   NPD(纳米图案成膜单元)选项(如下图)



       主要功能


纳米级图案刻蚀

高深宽比蚀刻

离子束沉积

表面清洁

离子减薄


     技术能力

    


应用

纳米级图案刻蚀、高深宽比蚀刻、表面清洁、离子减薄等

Ÿ   SiO2 on Si substrate



Ÿ   Diamond Substrate(金刚石)

        

Ÿ   Quartz (Mask)



             

Ÿ   Oriented PET film