2026 第二届先进光刻技术研讨会已顺利闭幕。上海纳腾仪器有限公司作为本次活动赞助参展企业，携全系列微纳加工、精密检测、配套耗材及辅助设备整套解决方案参与本次行业盛会，与众多专家学者、产业链企业深入交流，本次参展取得圆满成效。
本次研讨会聚焦无掩膜光刻、电子束曝光、纳米压印等前沿光刻工艺，汇聚高校、科研院所、半导体制造企业相关技术人员，围绕光刻研发、工艺配套、精密量测等热点议题开展研讨。依托现场展板与产品宣传手册，上海纳腾完整展示三大核心业务板块：微纳米加工技术、微纳米检测技术、微纳米耗材及辅助设备。
微纳加工设备包含便携式无掩膜光刻机、电子束曝光系统、离子束刻蚀、聚焦离子束加工、纳米压印、桌面式 CMP 等设备；检测仪器涵盖原子力显微镜、白光干涉仪、椭偏仪、纳米压痕仪、方块电阻测试仪等，可实现图形形貌、薄膜厚度、力学与电学性能高精度检测；同时展出 AFM 探针、光刻胶、主动减振台等配套耗材与辅助设备，一站式覆盖先进光刻实验室全流程使用需求。
展会现场，公司技术团队为到访来宾细致讲解设备应用场景，针对实验室搭建、高精度测量、环境减振、国产设备替代等行业痛点提供定制化配套方案，收获大量客户咨询，积累多项合作意向。不少参会代表表示，纳腾完整的国产化微纳仪器体系，能够很好适配现阶段光刻研发需求。
上海纳腾仪器深耕微纳精密仪器领域，坐落于上海徐汇区，长期为国内科研与半导体行业提供本土化设备支撑。此次参展搭建起高效的产业沟通平台，精准把握行业发展需求。未来公司将持续迭代光刻配套相关仪器产品，坚持技术创新，积极参与各类行业交流活动，以国产精密仪器助力国内先进光刻产业自主高质量发展。
