型号:

 

  SHNTI的X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低),穿透能力越差,所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在“离轴”状态工作(即薄膜与光束成一定角度)时,也需要较薄的薄膜窗口,便于X射线更好地穿透。


  SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成,由于此种 氮化硅窗口选用低应力氮化硅(0-250MP)薄膜,因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和 透射能谱等广泛的科学研究领域,例如,X-射线(上海光源透射成像/能谱线站)、TEM、SEM、IR、UV等。

现在SHNTI可以提供X-射线显微成像/能谱(同步辐射)用氮化硅薄膜窗系列产品,规格如下:
外框尺寸 (4种标准规格):
5 mm x 5 mm (窗口尺寸:1.0 mm 或和 1.5 mm 方形)
7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸:2.0 mm 或 2.5 mm)
10 mm x 10 mm (窗口尺寸:3.0 mm 或 5 mm 方形)
边框厚度: 200μm、381μm、525μm。
Si3N4薄膜厚度:50、100、150和200nm
SHNTI也可以为用户定制产品(30-500nm),但要100片起订。
本产品为一次性产品,SHNTI不建议用户重复使用,本产品不能进行超声清洗,适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。
与X射线用氮化硅窗口类似,透射电镜(TEM)用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小,适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。
 
现在SHNTI可以提供透射电镜(TEM)用氮化硅薄膜窗系列产品,规格如下:
外框尺寸:
3 mm x 3 mm (窗口尺寸:0.5 mm,薄膜厚度:50 nm) 3 mm x 3 mm (窗口尺寸:1.0 mm,薄膜厚度:50 nm) 3 mm x 3 mm (窗口尺寸:1.0 mm,薄膜厚度:100 nm) 边框厚度: 200μm、381μm。
Si3N4薄膜厚度: 50nm、100nm
SHNTI也可以为用户定制产品(30-200nm),但要100片起订。
本产品为一次性产品,SHNTI不建议用户重复使用,本产品不能进行超声清洗,适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。

 
技术指标:

表面平整度:
  我们认为薄膜与其下的硅片同样平整, TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为:0.6-2nm。完全适用于TEM表征。
亲水性
  该窗格呈疏水性,如果样品取自水悬浮液,悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理,可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿 命进行过测试,但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格,但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进 行相应的处理提高其亲水性能。
 
温度特性:
氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品,能够承受1000度高温,非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。
 
化学特性:
氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。
 
 
应用简介和优点:
1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。
2、 大窗口尺寸,适合TEM大角度转动观察。
3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。
4、 背景氮化硅无定形、无特征。
5、 耐高温、惰性衬底,适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境,(薄膜直接沉积在窗口上)。
6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后,窗口具有很好的亲水性。。
7、 耐高温、惰性衬底,也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。
8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。
氮化硅薄膜应用范围非常广,甚至有时使不可能变为可能,但所有应用都有无氮要求(因样本中有氮存在):
惰性基片可用于高温环境下,通过TEM、SEM或AFM(某些情况下)对反应进行动态观察。
作为耐用基片,首先在TEM下,然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。
作为耐用匹配基片,对AFM和TEM图像进行比较。
聚焦离子束(FIB)样本的装载,我们推荐使用多孔薄膜,而非不间断薄膜。


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